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TiO2石墨烯復合材料研磨分散機,TiO2/石墨烯復合材料目前一般先有膨脹石墨制備石墨烯,然后再加入鈦源試劑,進過研磨分散設備分散而制成。推薦GMSD2000系列超高速研磨分散機,兩級結構,先研磨后分散,轉速0-18000rpm,研磨分散效果好,粒徑小,均勻度高。
更新時間:2024-07-03型號:GMSD2000廠商性質:生產廠家瀏覽量:1299
水性密封膠研磨分散機,結合揚州企業(yè)案例,水性密封膠要求嚴格,要保證物料體系的分散均勻性,以及粒徑要細,過篩網流速要快,并且處理過程中要控制溫度在40℃以下。推薦采用GMSD2000系列研磨分散機進行研磨、分散處理,效果好、效率高。
更新時間:2024-07-03型號:GMSD2000廠商性質:生產廠家瀏覽量:1333
高分子研磨分散機可以處理量大,運轉更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產,粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料98%通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
更新時間:2024-09-11型號:GMD2000/4廠商性質:生產廠家瀏覽量:680
小型研磨分散機可以處理量大,運轉更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產,粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料98%通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。
更新時間:2024-09-11型號:GMD2000/4廠商性質:生產廠家瀏覽量:551
*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
更新時間:2024-07-03型號:GMSD2000廠商性質:生產廠家瀏覽量:1198
二氧化硅分散液研磨分散機轉速Z高可達14000rpm,采用德國進口膠體磨與高速分散機相結合的形式,納米氧化硅水分散液相比較于比納米氧化硅粉體,具有更加細小的粒徑,且不易團聚,粒徑分布狹窄,產品具有更加優(yōu)異的納米特性,使用時易于添加和混合,極大的提升了納米氧化硅應用的可操作性和應用前景。
更新時間:2024-07-03型號:GRS2000/4廠商性質:生產廠家瀏覽量:1380
SGN藥用輔料微晶纖維素研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。
更新時間:2024-07-03型號:GMSD2000/4廠商性質:生產廠家瀏覽量:1106
SGN果蔬立式高速研磨機專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。它綜合了均質機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均質、混合等功效。物料通過加工后,粒度達2~50微米,均質度達90%以上,是超微粒加工的理想設備。
更新時間:2024-07-03型號:GM2000/4廠商性質:生產廠家瀏覽量:1011